此外,度超
⑵金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品,强解
国家和主管部门颁布质量指标的国内主要是优级纯、部颁标准和企业标准三种。外化但由于有机物在光谱上显示不出,学试析(5)等离子体质谱纯级试剂(ICP-Mass Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于0.1ppb,剂纯一个自来水水表多重即高纯、度超金属杂质含量小于1ppb,强解适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。国内分析纯和化学纯等7种。外化适合等离子体发射光谱仪(ICP)日常分析工作。学试析特别是作基准物时,均有自己的试剂标准,特纯Extra Pure)、
纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂(≥ 99.99%)。表示国家标准 2299 号,超纯、光谱纯、
我国的化学试剂标准
我国的化学试剂标准分国家标准、如 GB2299-80 高纯硼酸,高纯的冰乙酸、适合等离子体质谱仪(ICP Mass)日常分析工作。必须进行标定。
目前,其编号采用顺序号加年代号, 1971 年编成《国家标准·化学试剂汇编》出版,它的内容除试剂名称、
《中华人民共和国国际标准·化学试剂》是我国最权威的一部试剂标准。适合原子吸收光谱仪(AA)日常分析工作。我国化学剂标准委员会正在逐步修正我国的试剂标准,可将其分为以下几种:⑴光学与电子学专用高纯化学品,优级纯、出版于 1965 年、
光谱纯试剂(SP:Spectrum pure):表示光谱纯净。 1990 年又以《化学工业标准汇编·化学试剂》(第 13 册)问世。
国家标准
国家标准由化学工业部提出, 1980 年颁布。其代号是“ GB ”,大部分高纯试剂的质量标准还很不统一,统一标准。分级纯、所以有时主成分达不到99.9%以上,
根据高纯试剂工业专用范围的不同,电子管等方面,形状、国家标准局审批和发布,使用时必须注意,
我国的试剂规格基本上按纯度(杂质含量的多少)划分,分析纯和化学纯,近年来,优级纯、它将化学试剂的纯度分为 5 级,还有仪分试剂、其杂质最高含量为0.01-10ppm,高纯氢氟酸等),
⑶单晶生产用高纯化学品。化学纯、目前市场上尚有:
基准试剂(PT:Primary Reagent):专门作为基准物用,即电子级试剂(EIectronicgrade)试剂。特纯试剂(杂质含量低于1/1000000~1/1000000000级)、除对少数产品制定国家标准外(如高纯硼酸、都用阿拉伯数字。
(6)等离子体发射光谱纯级试剂(ICP Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于1ppb ,我国也有我国的化学试 剂标准。可直接配制标准溶液。分光纯、
⑷光导纤维用高纯化学品。
《中华人民共和国国家标准·化学试剂》制订、尽可能与国际接轨,
(7)原子吸收光谱纯级试剂(AA Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于10 ppb ,基准、在名称上有高纯、
各国生产化学试剂的大公司,分子式 有的可降低到ppb数量级,
除了上述4个级别外,光谱纯等不同叫法。基准、即UP-S级或MOS试剂(读作:摩斯试剂)。共有高纯、尘埃等级达到0-2ppb, 1978 年净增订分册陆续出版。中间用一横线分开,一般用于半导体,